Was ist dotierung?

Dotierung ist ein Prozess, bei dem gezielt bestimmte Fremdatome in ein kristallines Material eingeführt werden, um dessen elektrische, optische oder mechanische Eigenschaften gezielt zu verändern. Dieser Prozess kommt vor allem bei der Herstellung von Halbleitermaterialien wie Silizium oder Germanium zum Einsatz.

Es gibt zwei Arten von Dotierung: p-Dotierung, bei der positiv geladene Fremdatome (z.B. Bor) hinzugefügt werden, und n-Dotierung, bei der negativ geladene Fremdatome (z.B. Phosphor) hinzugefügt werden. Durch die Dotierung entstehen freie Ladungsträger (Elektronen oder Löcher) im Material, die zur Leitung von elektrischem Strom beitragen.

Die Auswahl der Dotierungsart und der Dotierungsstoffe beeinflusst maßgeblich die elektrischen Eigenschaften des Materials, wie z.B. die Leitfähigkeit, die Ladungsträgerdichte und die Bandlücke. Durch gezieltes Dotieren können Halbleitermaterialien für verschiedene Anwendungen optimiert werden, z.B. für die Herstellung von Transistoren, Solarzellen oder Leuchtdioden.